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X射線衍射儀

簡(jiǎn)要描述：DX系列X射線衍射儀設(shè)計(jì)精密，硬件、軟件功能齊全，能靈活地適用于物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的各種測(cè)試、分析和研究。根據(jù)實(shí)際任務(wù)的需要，可以安裝各種特殊功能的附件及相應(yīng)控制和計(jì)算軟件，組成具有特殊功能的衍射儀系統(tǒng)。

產(chǎn)品型號(hào)：DX系列
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-07-16
訪問量：4771

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詳情介紹

DX系列X射線衍射儀設(shè)計(jì)精密，硬件、軟件功能齊全，能靈活地適用于物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的各種測(cè)試、分析和研究。根據(jù)實(shí)際任務(wù)的需要，可以安裝各種特殊功能的附件及相應(yīng)控制和計(jì)算軟件，組成具有特殊功能的衍射儀系統(tǒng)。

　　●硬件系統(tǒng)和軟件系統(tǒng)的*結(jié)合，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū)W者、科研者的需要；

　　●高精度的衍射角度測(cè)量系統(tǒng)，獲取更準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果；

　　●高穩(wěn)定性的X射線發(fā)生器控制系統(tǒng)，得到更穩(wěn)定的重復(fù)測(cè)量精度；

　　●程序化操作、一體化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)便、儀器外型更美觀。

技術(shù)參數(shù)

　　可對(duì)單晶、多晶和非晶樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析，如物相定性和定量分析（RIR定量、內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)法、外部標(biāo)準(zhǔn)法、標(biāo)準(zhǔn)添加法），衍射譜圖指標(biāo)化及點(diǎn)陣參數(shù)測(cè)定，晶粒尺寸及點(diǎn)陣畸變測(cè)定，衍射圖譜擬合修正晶體結(jié)構(gòu)（WPF），殘余應(yīng)力測(cè)定，織構(gòu)分析（ODF表示立體極圖），結(jié)晶度、薄膜測(cè)定。

衍射數(shù)據(jù)處理軟件

　　對(duì)衍射數(shù)據(jù)進(jìn)行常規(guī)處理：自動(dòng)尋峰、手動(dòng)尋峰、積分強(qiáng)度、Kα1、α2剝離、背景扣除、平滑、峰形放大、多重繪圖、3D繪圖、已知晶體理論結(jié)構(gòu)，模擬出XRD衍射譜圖等;

　　擬合、多重峰分離

　　通過 Pseudo-Voigt函數(shù)或是利用Pearson-VII函數(shù)對(duì)重疊峰擬合分解，確定單一衍射峰的參數(shù)，同時(shí)計(jì)算結(jié)晶度、晶粒尺寸、二類應(yīng)力等。

　　定性、定量分析：

　　定性、定量分析確定樣品物相組成后，使用Rietveld方法，計(jì)算出各種物相含量的百分比（無標(biāo)標(biāo)定量分析）。

　　Rietveld晶體結(jié)構(gòu)精修（WPF）

　　全譜擬合定性分析、精確定量分析峰形分析研究晶體雜質(zhì)、位錯(cuò)、晶界、點(diǎn)陣畸變等微觀結(jié)構(gòu)。

　　繪圖、打印輸出

　　數(shù)據(jù)處理軟件與Windows相連接，對(duì)將要輸出的圖譜可以使用標(biāo)注、放大、縮小等功能進(jìn)行版面設(shè)計(jì)，也可以使用Windows操作進(jìn)行剪切、粘貼。

集成測(cè)量附件（選件）

　　廣角測(cè)角儀一般是針對(duì)粉末樣品、塊狀樣品定性和定量分析而設(shè)計(jì)的。但隨著材料研究的深入，越來越多的板材、塊狀材料及基體上的膜也要求用X射線衍射分析，集成測(cè)量附件就是為了滿足這些需要而設(shè)計(jì)的。在廣角測(cè)角儀上安裝集成測(cè)量附件可以進(jìn)行織構(gòu)、應(yīng)力、薄膜、定量分析等測(cè)試，每一種測(cè)試功能都有相應(yīng)的計(jì)算軟件。

　　應(yīng)用領(lǐng)域：

　　●碾軋板（鋁板、鐵板、銅板等）織構(gòu)測(cè)量及評(píng)價(jià)（極圖、反極圖、ODF計(jì)算）
　　●大分子化合物取向測(cè)量
　　●陶瓷樣品取向測(cè)量
　　●薄膜樣品晶體優(yōu)先方位的評(píng)價(jià)
　　●金屬材料、陶瓷材料的殘余應(yīng)力測(cè)量（切削、敲擊等加工產(chǎn)生　的應(yīng)力）
　　●金屬材料上的氧化膜、氮化膜等殘余應(yīng)力測(cè)量，進(jìn)行耐磨性、　切削性評(píng)價(jià)
　　●多層膜材料的殘余應(yīng)力測(cè)量
　　●金屬、非金屬基體上的多層膜、氧化膜、氮化膜分析
　　●金屬、非金屬表面的電鍍材料分析
　　●有擇優(yōu)取向的粉末、大分子材料的定性、定量分析

　　特點(diǎn)：

　　●極圖測(cè)試裝置（有反射法、透射法、γ擺動(dòng)）
　　●應(yīng)力測(cè)量附件（有側(cè)傾法、并傾法）
　　●薄膜測(cè)量、Phi 掃描（樣品表面旋轉(zhuǎn)）
　　●zui大可測(cè)量樣品尺寸：φ35X8mm
　　●樣品前后自動(dòng)調(diào)整zui小距為：5μm
　　●附件有定位結(jié)構(gòu)與廣角測(cè)角儀安裝、柝卸十分方便
　　●DX系統(tǒng)軟件自動(dòng)控制各個(gè)方向動(dòng)作，可以更好的進(jìn)行粉末樣品測(cè)試

　　技術(shù)參數(shù)：

　　α軸轉(zhuǎn)動(dòng)范圍：－45°～90°　zui小轉(zhuǎn)動(dòng)步距0.001°/步

　　β軸轉(zhuǎn)動(dòng)范圍：360° 　　　　zui小轉(zhuǎn)動(dòng)步距0.005°/步

　　γ軸轉(zhuǎn)動(dòng)范圍：±8mm　　　　　水平45°方向擺動(dòng)

　　Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)范圍：10mm 　　　　　zui小移動(dòng)步距0.005mm/步

　　集成測(cè)量附件配置有高分辯率平行光光學(xué)系統(tǒng)，克服了聚集光學(xué)系統(tǒng)的缺點(diǎn)。平行光光學(xué)系統(tǒng)可以解決測(cè)量角度誤差、衍射峰不對(duì)稱、分辯率低等問題。尤其適用于材料殘余應(yīng)力、有機(jī)材料、薄膜、鍍膜等樣品分析。

　　織構(gòu)使多晶材料呈現(xiàn)各向異性，利用織構(gòu)改善和提高材料的性能、充分發(fā)揮材料性能潛力是材料科學(xué)研究重要的工作之一。雖然檢測(cè)材料織構(gòu)的方法很多，但是zui廣泛應(yīng)用的還是X射線衍射技術(shù)。

集成測(cè)量附件應(yīng)用于退火鋁的織構(gòu)測(cè)試。分別測(cè)量出111、200、220三張極圖，使用計(jì)算軟件繪制的反極圖和立體極圖（ODF圖）

　　集成測(cè)量附件應(yīng)用于鋼的殘余應(yīng)力測(cè)試，Psi角膜式，-45°～90°范圍內(nèi)取點(diǎn)對(duì)稱測(cè)量2θ角峰位，計(jì)算正向、反向測(cè)試應(yīng)力值，取平均值為應(yīng)力測(cè)量結(jié)果。

纖維樣品測(cè)量裝置（選件）

　　纖維樣品測(cè)量附件安裝在廣角測(cè)角儀上。安裝纖維樣品或?qū)⒗w維樣品安裝后拉伸，用透射法或是反射法測(cè)試晶體結(jié)構(gòu)或是晶體結(jié)構(gòu)的變化，適用于木材、纖維等樣品的纖維組織測(cè)量。

樣品旋轉(zhuǎn)（薄膜測(cè)量）附件（選件）

　　使用聚焦光學(xué)系統(tǒng)一般無法測(cè)量薄膜樣品，但采用平行光光學(xué)系統(tǒng)和樣品旋轉(zhuǎn)附件、將θ軸固定、低角度入射、使用平晶單色器反射、保持樣品內(nèi)旋轉(zhuǎn)的方法，除掉來自基體的強(qiáng)X射線，可以高效率地探測(cè)到薄膜衍射線。

衍射儀通用附件（選件）



單色器：提高衍射峰與背景比例及對(duì)微相分析能力		DCX-6換樣器：編程控制，一次安裝多個(gè)樣品，順序進(jìn)行測(cè)試，保存測(cè)量結(jié)果，提高儀器的運(yùn)行效率。


陶瓷體X射線管功率：2kW 焦點(diǎn)：1X10mm 標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)、適用國(guó)內(nèi)外X射線儀		制樣器：用于粉體衍射樣品制作

Dwlc-2循環(huán)水冷卻裝置

　　該裝置主要用于顯微鏡、電子探針、能譜儀、衍射儀、熒光光譜儀等實(shí)驗(yàn)室設(shè)備所需要的恒溫水源。它運(yùn)用壓縮機(jī)制冷原理，采用封閉內(nèi)循環(huán)水循環(huán)，自動(dòng)控制制冷系統(tǒng)工作，對(duì)儀器需要冷卻部件進(jìn)行熱交換，使儀器在*溫度下穩(wěn)定工作。

技術(shù)參數(shù)